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(서울=연합뉴스) 차병섭 기자 = 미국의 대중국 반도체 견제에도 중국이 첨단 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 노광장비 시제품을 만들었으며, 이르면 2028년 이를 이용해 칩을 생산하겠다는 목표를 세운 것으로 전해졌다.
소식통은 중국 정부가 2028년 시제품을 이용해 작동 가능한 칩을 생산하겠다는 목표를 설정했다고 말했다.
다른 소식통은 2030년께가 좀 더 현실적인 목표라고 말했지만, 이 역시 10년은 걸릴 것이라는 기존 예상보다 빠르다며 중국의 반도체 자립 시점이 앞당겨질 수 있다고 로이터는 전망했다.
EUV 노광장비는 현재 네덜란드 반도체 장비업체 ASML이 독점 생산 중이다.
소식통들은 ASML 출신의 고연봉 엔지니어로 구성된 팀이 ASML의 EUV 노광장비를 분해해 모방하는 식으로 올해 초 시제품을 완성해 테스트 중이라고 설명했다.
이들은 시제품이 극자외선 생성에 성공했지만 아직 작동 가능한 칩을 만들지는 못했다며, ASML의 정밀 광학시스템 등을 따라 하는 데 기술적 어려움을 겪고 있다고 전했다.
중국은 유통시장에서 구형 ASML 장비나 ASML 협력업체 부품을 확보하는 식으로 필요한 부분을 조달하며, 최종 구매자를 가리기 위해 중개업체를 사용하는 경우도 있는 것으로 전해졌다.
해당 연구는 중국 광둥성 선전의 한 연구실에서 비밀리에 진행 중이며, 시제품은 공장 1개 층 전체를 채울 정도로 큰 것으로 알려졌다.
ASML의 첨단 제품은 180t에 스쿨버스 정도 크기다. 중국 시제품이 이보다 몇 배 크고 완성도도 떨어지지만, 테스트할 정도는 된다는 것이다.
이번 EUV 개발 사업은 제2차 세계대전 당시 미국의 원자폭탄 개발에 빗대 '중국판 맨해튼 프로젝트'로 불린다는 게 소식통 설명이다.
한 소식통은 "중국의 목표는 궁극적으로 완전히 중국산 장비를 이용해 첨단 칩을 생산하는 것"이라면서 "중국은 공급망에서 미국을 100% 쫓아내고 싶어 한다"고 말했다.
소식통들은 중국 반도체업체 화웨이가 중국 전역의 기업과 국영 연구소, 엔지니어 수천 명을 조율하는 데 핵심 역할을 하고 있다고 전하기도 했다.
다만 중국 유관 부처와 화웨이 등은 로이터의 논평 요청에 입장을 밝히지 않았다.
ASML 측은 "기업들이 우리 기술을 베끼고 싶어 하는 것은 이해되지만 간단한 일이 아니다"고 말했다.
ASML은 2001년 처음으로 작동 가능한 EUV 노광장비 시제품을 만들었고, 이후 2019년 첫 상업용 칩 생산에 성공할 때까지 연구개발(R&D)에 수십억 유로를 썼다는 것이다.
미국은 중국의 첨단 반도체 기술·장비 접근을 막는 한편 동맹들에도 동참을 압박하고 있으며, 네덜란드는 중국 측에 EUV 노광장비를 판매하지 않고 있다.
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