삼성전자, 2019 완공 목표 中 시안 반도체 2기 라인 착공

삼성전자가 3D V낸드 수요 증가에 대응하기 위해 중국 시안 반도체 사업장 2기 라인 착공세 나선다고 28일 밝혔다. 시안 반도체 2기 라인을 구축해 낸드플래시(V-NAND)를 필요로 하는 글로벌 IT 시장의 요구에 적극 대응 하겠다는 계획이다.

삼성전자는 지난해 8월 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결한 바 있으며 향후 3년간 총 70억 불을 투자한다고 밝힌 바 있다.

삼성전자는 시안 반도체 2기 라인 투자를 통해 낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일, IT업체들의 생산기지가 집중되어 있는 중국시장에서 제조 경쟁력을 더욱 강화하고 중국 시장 요구에 보다 원활히 대응할 수 있을 것으로 기대하고 있다.

김기남 삼성전자 사장은 "시안 2기 라인의 성공적인 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께 차별화된 솔루션을 고객에게 제공하여 글로벌 IT 시장 성장에 기여 하겠다"고 말했다.

김세형 기자 fax123@sportschosun.com